适用于非晶硅薄膜太阳能电池的透明导电膜（SnO2、ZAO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Ai）的激光刻膜
（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。
产品特点：
激光波长 ： 1064nm或532nm 刻膜线宽 ： 30um ～ 100um 刻膜速度 ： 30m／min ～ 60m／min 刻膜精度 ： 三线外沿总宽度 < 400um 玻璃幅面 ： 1245mm x 635mm 占地面积(长x宽)： 3000mm x 1600mm
半导体端面泵浦激光器，双光路等能量分光 高刚性主机采用大理石床身、铸铁龙门结构 精密滚珠丝杠伺服驱动．龙门一维移动 电池板静止．双激光头双工位同步加工无需拼接 CCD刻线质量检测和工件辅助定位 实时同步吸尘装置
