MRF™ 抛光由 QED 独家提供，灵活快速、可靠且准确。
借助车间中的 MRF 机器，您可以将光学表面抛光至原始形状、形状和光洁度，无论对称性、几何形状或斜率变化如何。
我们的 MRF 系统系列具有许多优势，可以消除传统抛光的固有问题。
磁流变法的优点：
MRF 为精密光学制造带来了精度、确定性和可重复性。
提供完全确定性的过程，可以表征为非常高的精度
符合复杂表面，提供抛光非球面和完全自由形状的灵活性
由于去除率高，因此缩短了循环时间
保持工艺稳定性
提供精密光学制造系统，扩大设计选择并提高成本效益
抛光球面透镜、非球面透镜、棱镜、自由曲面等。
磁流变抛光
更快地生产更好的光学器件。
QED 的 MRF 计算机控制抛光系统可确定地产生更好的高精度光学器件。
无与伦比的准确性和重复性
高精度表面 (lambda/50)
透射波前校正（窗口、相位板、一个表面上的整个系统校正）
光学玻璃、单晶（氟化钙、硅……）和陶瓷
方形和矩形孔径表面，例如棱镜、圆柱体和光空白基板
温和和狂野的非球面、圆柱体和自由形状
高深宽比光学器件和基板（薄膜滤光片、标准具基板、半导体晶圆等）
MRF 实现了许多光学行业人士过去认为不可能的事情。
抛光球形、非球面、自由形状、圆柱形或任何其他数学定义的形状
解决厚度均匀性（对于绝缘体上硅半导体晶圆应用很重要）或光学厚度
MRF 还可以通过以下方式提高表面完整性：
消除微裂纹和地下损伤
消除残余应力
提高玻璃对激光损伤的抵抗力
磁流变抛光
磁场产生铁颗粒的坚硬结构，迫使水和磨料以薄层形式到达顶部。创建了一个收敛间隙。形成核心，形成剪切流体层。产生压力梯度并产生基于剪切的高速去除。
工件安装在距移动的球形轮固定距离处。位于轮表面下方的电磁体在轮和工件之间的间隙中产生磁场。当 MR 流体输送到砂轮时，磁场将其拉向砂轮表面，并将工件放入 MR 流体带中，从而形成子孔径抛光工具，也称为“光斑”。当工件以旋转或光栅路径扫过抛光区域时，复杂的计算机程序确定改变工件位置的时间表。
计算机数控、精密工作站和复杂的计算机算法有助于确保 MRF 抛光系统的自动化和稳健性。易于使用的触摸屏界面引导操作员完成自动化过程的每一步。稳定性、可预测性和可重复性是每个 MRF 抛光周期的特征。
直观且易于使用
光学表面误差在干涉仪上得到全面表征，并传输至 MRF 系统。
用户友好的软件可以计算纠正表面误差所需的最佳刀具路径。
预运行设置通过集成模拟进行验证。
抛光过程中实时监控进度。
高级分析功能评估最终结果。
1、磁流变抛光Q22-1200
使用一台机器即可对尺寸达 1.2 米的研磨自由曲面光学元件进行高精度抛光和精加工！
最新的磁流变射频技术
扩展尺寸能力
抛光孔径尺寸可达 1200 mm
QED.NET软件
EFMS（电子流体监控系统）流体控制系统。
技术能力
抛光最大 1200 mm x 1200 mm 的平球面、非球面、柱面和自由曲面光学器件
多部分批量抛光软件
提供 4 种不同的轴配置
可互换的抛光头
50 毫米 MRF 轮可以抛光细小的表面特征并减少边缘效应。
370 mm MRF 砂轮具有较高的材料去除率，可快速覆盖大表面。
抛光垫可以进行预抛光或平滑处理：
可变轨道和自旋转速
可变压力
50 毫米和 100 毫米垫抛光头
咨询电话：13522079385
技术规格：
工件
最大工件尺寸* 1200毫米
最大工件重量* 400公斤（含镜架）
最大半角 30度
工件固定方式** 机械式（真空可选）
轴*** X、Y、Z、A、B、C、Q、Zp
移动范围***
（X） 1606毫米
(是) 1016毫米
（Z，Z素数） 740毫米
(二) B +/-32 度
（C） C +/-35 度
（问、答） 连续或 360 度
定位精度***
（X、Y、Z） +/- 0.0076 毫米
（乙、问） +/- 20 角秒
（C） +/- 10 角秒
2、磁流变抛光Q22-750P2
Q22-750P2 是一款大孔径 MRF 机器，将 MRF 成形能力扩展到大型、长半径零件。
3、磁流变抛光Q22-600
Q22-600 为抛光大孔径精密光学器件提供了更多选择。
4、磁流变抛光Q-FLEX 300
Q-flex 300 为任何光学车间（从原型到批量生产）带来了更多功能和效率。
5、磁流变抛光Q-FLEX 100
Q-flex 100 为任何光学车间（从原型到批量生产）带来了更多功能和效率。
