美国荷兰日本达成对中国芯片禁止协议，浸润式DUV光刻机不卖了

1. 这个是业界早就预期的，因为浸润式光刻机可以用来造14nm芯片，最强可以到7nm。有些相关技术常识。
2. 最先进的叫EUV光刻机，13.5nm的极紫外光源，可以用较少的工序造7nm芯片。次先进的光刻机就是immersion浸润式DUV光刻机，光源是193nm的，但是在水里折射变137nm，加工能力更强，多次光罩叠加后可以做14nm芯片。
3. 中国已经有一些浸润式DUV光刻机，是ASML卖的。拜登搞的协议将让ASML和日本尼康都不能卖了，这样将无法扩产。 估计日本东京电子还会通过耗材供应，卡中芯国际等中国公司现有的光刻机制造能力。
4. 还能卖的是干法DUV光刻机，也是193nm光源，这种只能用来造55nm、40nm之类的芯片。28nm都不太方便了。这对中国芯片扩张产能有很大影响。
5. 现在局面明确了，中国公司之前的一些扩产假设需要调整，不能指望ASML和日本供应商，只有一些成熟制程里低级的还能扩产。
6. 最后的关键是，SMEE上电微到底行不行，浸润式光刻机搞得如何了，就顶在这了。美国方面应该是有了情报，中国自己没有搞出可以实际应用的浸润式光刻机（中国这可能更习惯叫28nm光刻机），所以就推进到这了。问题是还要几年，也不只是光刻机，还有很多配套。总体来说，群众慢慢认识到了难度，时间节点一再往后推。